全部 更多 0.2%溶液 0.5%溶液 1%溶液 1.0%HClin70%乙醇 1.0%HClin95%乙醇 1.3%-1.5%inisopropanol 2%cross-linkedwithdivinylbenzene 2%水溶液 3%NH3inH2O 5%溶液 5.0%Pdbasis 5%carboxylbasis 6%Zrinmineralspirits 10% w/v in isopropanol/toluene, 98% trace metals basis 10%w/vinisopropanol/toluene，98%tracemetalsbasis 10%Pd(OH)2 10%Pdbasis 10%inH2O 10%inpropanediol 10%solutioninH2O 10%w/vinethanol 10%溶液 10%的水溶液，约2.4molL 13%于四氢呋喃中，约0.8mol/L 14%inH2O 15%Mo 20%Pd(OH)2 20%inwater 20%w/wsolutionindiethyleneglycoldiethylether 20%水溶液 20%甲醇溶液，~20%inmethanol(T) 20%，COD≥17万mg/L 22.5%水溶液 25%inH2O 25%水溶液 28%K2O，粉末 28%inwater 30%inWater 30%inwater 30%乙二醇溶液 30%水溶液 30%，COD≥25万mg/L 31%inH2O 35% 35%水溶液 36%，固体 40% 40%inWater 40%水溶液 40%+inwater 40%w/winwater 40%水溶液，即2.6mol/L 40%溶液，电子级 40.5%-42.5%Pb 43%NaPO3 43.6%(wt)indichloromethane 45%水溶液 45% 46% 47% 50%inH2O 50% 50%inwater 50%水溶液 50%+inwater 50%aqueoussolution(99.9%-Eu)(REO) 50%solutioninH2O 50%溶液 50%甲苯溶液 50%甲醇溶液 50%邻苯二甲酸二辛酯溶液 55%inwater 55% 59% 60%水溶液 60%-70% 60%inwater，300-500ppmMEHQ 60%w/winwater 60% 60%溶液 60%，GC 61%mininmineralspirits，Pb24% 65% 65%inH2O 65%，混合物 70% 70%inwater 70%HF 70%inETOH 70%inH2O 70%水溶液 70%甲醇溶液 70%，含异构体和邻苯二甲酸 74%，光球状，3-5mm 74%，片状 75% 75%(containsca.23%isomer) 75%inH2O 75%，消毒用 80% 80%(contains5%Phenolatmaximum) 80%inethanol 80%inwater 80%water 80%水溶胶 80%，GC 80%，天然 82% 83% 83%，GC 85% 85%，GC 85%，StabilizedwithTBC 85%，cont.ca10%2-cyclohexylidenecyclohexanone 85%，含100ppmMEHQ稳定剂 87% 87%，顺反异构体混和物 88% 88%(m-andp-mixture)(stabilizedwithTBC+ONP+o-Nitrocresol) 88.5%(HPLC) 89% 90% 90%，T 90%(GC) 90%(HPLC)，用于荧光分析 90%(stabilizedwithTBC) 90%stabilizedwith60-100ppmMEHQ 90%，GC 90%，LC 90%，stabilizedwithTBC+2-Nitro-p-cresol 90%，γ型 90%，异构体的混合物 90%，来源于鲨鱼 90%，溶于水 90%，顺反异构体混和物 90%，顺反混合物 91% 92% 92%，含有稳定剂MEHQ 92%(GC) 93% 93%，GC 93%，T 93%，含200ppmTBC阻聚剂 93%，含稳定剂吩噻嗪 93%，外消旋和内消旋混合物 93%，黄相 94% 94%（HPLC） 94%，刺球状，1-3mm 94%，含0.2%topanol稳定剂 95% 95%，GC 95%，顺反混合物 95%(GC) 95%(HPLC) 95%mixTBCasstabilizer 95%，stabilizedwithTBC 95%(T) 95%(stabilizedwithCopperchip) 95%(stabilizedwithTBC) 95%，40-60目 95%，98%ee 95%，GC&T 95%，mixtureofisomers 95%(NMR) 95%(TLC) 95%(stabilizedwith1%BHT) 95%(stabilizedwithBHT) 95%(stabilizedwithK2CO3) 95%(含碳酸钾稳定剂) 95%(含约40%的十八烷基醚硫酸钠) 95%+ 95%anhydrousbasis 95%stabilizedwithTBC 95%（stabilizedwithDCM） 95%， ≤1.0%water 95%，(双酯≥75%，单酯≥20%) 95%，0.1%4-甲氧基苯酚稳定剂 95%，100目 95%，200-300目 95%，200ppm4-甲氧基苯酚稳定剂 95%，LC&T 95%，LC 95%，T 95%，ee99% 95%，stabilizedwith60-100ppmMEHQ 95%，stabilizedwithMEHQ 95%，trans-isomer>92% 95%，含0.01%柠檬酸稳定剂 95%，含0.2%sodiumcarbonate稳定剂 95%，含100-500ppmTBC稳定剂 95%，含100ppmMEHQ稳定剂 95%，含250ppmBHT稳定剂 95%，含K2CO3稳定剂 95%，含≤3%二氯甲烷 95%，含有稳定剂MEHQ 95%，含稳定剂MEHQ 95%，含稳定剂TBC 95%，含稳定剂铜屑 95%，异构体混合物 95%，异构体的混合物 95%，蓝相 95%，顺反异构体混和物 95.0%GC 96% 96%，GC 96%(stabilizedwithTBC) 96%(酯含量) 96%dryweight，5-10%甲醇做稳定剂 96%，MkSeal 96%，SUMOFBRANCHEDISOMER，0.01%MEHQ 96%，T 96%，上层覆保护剂 96%，含250ppmMEHQ稳定剂 96%，含30-70ppmMEHQ稳定剂 96%，含80-120ppmhydroquinone稳定剂 96%，含有200ppmMEHQ阻聚剂 96%，含稳定剂铜屑 96%，溶于油 96.0%(GC) 96.5%(GC) 97% 97%(HPLC) 97%，GC 97%，含铜稳定剂 97%(GC) 97%99%ee 97%，mixtureofisomers 97%，含稳定剂TBC 97%，异构体混合物 97.0%(GC) 97.0%(HPLC) 97%(NMR) 97%(cis-andtrans-mixture) 97%(mix) 97%(stab.withhydroquinone) 97%(stabilizedwithMEHQ) 97%(stabilizedwithTBC) 97%(含200-300ppmMEHQ稳定剂) 97%+ 97%25-27%solutioninethylacetate 97%mixTBCasstabilizer 97%（基于干物质）in25%H2O 97%，(E)+(Z) 97%，0.01%氢醌稳定剂 97%，0.1%对叔丁基邻苯二酚作稳定剂 97%，10%H2O 97%，10mg/mLsolutioninwater 97%，1μm 97%，30-45KDa 97%，300目 97%，40-100KDa 97%，50%inDichloromethane 97%，99%ee 97%，BETsurfaceArea8～16m2/g 97%，GC&T 97%，LC&T 97%，Pd10% 97%，SumofC16C18C20 97%，T 97%，ee97% 97%，mixtureof2-and4-isomers 97%，stab.with<1%magnesiumoxide 97%，waterca10% 97%，含0.02%4-methoxyphenol稳定剂 97%，含0.1%KOH稳定剂 97%，含0.1%TBC稳定剂 97%，含0.1%对叔丁基邻苯二酚(TBC)稳定剂 97%，含0.1%对苯二酚稳定剂 97%，含100-200ppmBHT稳定剂 97%，含100ppmBHT稳定剂 97%，含100ppmMEHQ稳定剂 97%，含60-100ppmBHT稳定剂 97%，含TBC稳定剂 97%，含含稳定剂氢醌 97%，含有数量不等的酸酐 97%，含有稳定剂MEHQ 97%，含稳定剂MEHQ 97%，含稳定剂MgO 97%，含稳定剂水滑石 97%，混合物 97%，约含150ppm4-甲氧基苯酚稳定剂 97%，顺反异构体混合物 97%，顺反异构体混和物 97%，顺反混合物 97%，顺式+反式 97.0%(TLC) 97.0%(sumofisomers，GC) 97.0%GC 97.00%盐酸盐 97.5% 98% 98%，GC 98%，T 98%，ee99% 98%(GC) 98%，LC&T 98%，mixtureofisomers 98%，顺反混合物 98%(HPLC) 98%，GC&T 98%，异构体混合物 98%，LC&N 98%，顺反异构混合物 98%(cis-andtrans-mixture) 98%(mixtureofisomers) 98%(stabilizedwithCopperchip) 98%(stabilizedwithMEHQ) 98%metalsbasis 98%异构体混合物 98%，100目 98%，99%ee 98%，stabilizedwithTBC 98%，含稳定剂HQ 98%，含稳定剂TBC 98%，异构体的混合物 98.0%(GC) 98%(GC&T) 98%(MixtureofisomericbranchedchainHexanes) 98%(T) 98%(asSnCl4) 98%(m-andp-mixture)(stabilizedwithTBC) 98%(mix) 98%(stabilizedwithBHT) 98%(stabilizedwithMethylhydroquinone) 98%+ 98%99%ee 98%Ir53% 98%MixtureofIsomers 98%dryweight 98%purity，99%e.e. 98%tracemetalsbasisexcludingZr 98%tracemetalsbasis 98%镍42% 98%，(stabilizedwithMEHQ) 98%，10-20目 98%，1250目 98%，200目 98%，300目 98%，40-60目 98%，400目 98%，4～8μm 98%，CP 98%，Co45-47% 98%，GC&N 98%，HPLC 98%，LC 98%，MixtureofIsomers 98%，N 98%，Pd>13.3% 98%，Pd>36.2% 98%，Pt：55.0±1.3% 98%，Rh>42% 98%，ee92% 98%，in10%DCM 98%，mixTBCasstabilizer 98%，mixtureofcisandtrans 98%，pd15% 98%，stabilizedwithCopperchip 98%，stabilizedwithHQ 98%，stabilizedwithMEHQ 98%，光学纯70% 98%，含0.01%KOH稳定剂 98%，含0.1%对苯二酚稳定剂 98%，含0.10%alpha-tocopherol抗氧化剂 98%，含0.3%MgO稳定剂 98%，含100ppmMEHQ稳定剂 98%，含5-10ppmtert-butylcatechol稳定剂 98%，含50-100ppmBHT稳定剂 98%，含90-110ppmMEHQ稳定剂 98%，含K2CO3稳定剂 98%，含o-型 98%，含不同量的酸酐 98%，含有数量不等的1，3-二异丙基咪唑鎓-2-羧酸盐 98%，含水约20%，单位重量以干重计 98%，含稳定剂0.1%KOH 98%，含稳定剂MEHQ 98%，含稳定剂吩噻嗪 98%，含稳定剂铜屑 98%，支链异构体类的混和物 98%，无水 98%，棕色结晶粉末 98%，深蓝紫色结晶粉末 98%，用于过氧化物酶试验 98%，粉末 98%，蓝相 98%，非对映异构体混合物 98%，顺反异构体混合物 98%，黄相 98.0%(TLC) 98.00%-gC&T 98.00%LC 98.5% 98.5%，mixtureofisomers 99% 99%metalsbasis 99%tracemetalsbasis 99%，GC 99%(GC) 99%，Water≤50ppm(byK.F.)，MkSeal 99%，升华纯化 99%，含稳定剂MEHQ 99%(metalsbasis) 99%（GC) 99%，2-4μm 99%，200目 99%，300目 99%，50nm 99%，MkSeal 99%，withmolecularsieves，Water≤50ppm(byK.F.)，MkSeal 99%(99.99%-Sb) 99%(HPLC) 99%(HPLC)，98% 99%(REO) 99%(StabilizedWithTBC)，MkSeal 99%(purityexcludes~1%Zr) 99%(二甲苯异构体+乙基苯) 99%(含200-300ppmMEHQ稳定剂) 99%(天然) 99%(支链异构体类的混合物总和) 99%+ 99%,AR 99%10-50微米 99%AuAssay39.91±0.8% 99%metalsbasis，2-10μm 99%，-325目 99%，0.1%单杂 99%，0.1-1mm 99%，0.5～0.7um 99%，1-3mm 99%，100目 99%，15nm，疏水性 99%，2-4mm 99%，325目，粉末 99%，4-7mm 99%，40目 99%，500目 99%，50目 99%，6μm 99%，99.99%-Hf，<0.2% 99%，AnhydrideGroupContent≥41.0% 99%，BP 99%，HPLC 99%，Ru:46% 99%，T 99%，Water≤50ppm(ByK.F.)，MkSeal 99%，WithMolecularSieves，Water≤50ppm(ByK.F.)，MkSeal 99%，WithMolecularSieves，Water≤50ppm(byK.F.)，MkSeal 99%，ee98% 99%，mixtureofisomers 99%，mixture 99%，β型 99%，≥99.99%tracemetalsbasis 99%，十二水合物 99%，单杂<0.1% 99%，含0.01%BHT稳定剂 99%，含0.01%的乙酸铵阻聚剂 99%，含0.1%KOH稳定剂 99%，含10-100ppm4-methoxyphenol稳定剂 99%，含10-15ppm4-叔-丁基邻苯二酚稳定剂 99%，含10-20ppmMEHQ作为稳定剂 99%，含10-20ppmMEHQ稳定剂 99%，含15-20ppmMEHQ稳定剂 99%，含150-400ppmBHT稳定剂 99%，含20ppmMEHQ稳定剂 99%，含50-150ppmTBC稳定剂 99%，含50ppmBHT稳定剂 99%，含水20% 99%，总杂<0.1% 99%，粒径<1.2um 99%，粒状 99%，金红石，2-3um 99%，锐钛，100nm 99%，锐钛，2-3um 99%，闪烁级 99%，高纯级 99%，黄色到棕色粉末 99%，黄色结晶针状固体 99.0%(AT) 99.0%metalsbasis 99.5% 99.5%metalsbasis 99.5%tracemetalsbasis 99.5%，100目 99.5% metals basis,≥100目 99.5% trace metals basis 99.5%(REO) 99.5%(metalsbasis) 99.5%(metalsbasis去除Ni)，Ni<0.2% 99.5%(metalsbasis去除铪)，325目 99.5%(metalsbasis，锆除外)，Zr<1% 99.5%,Extra Dry,with molecular sieves,Water≤50ppm(byK.F.),Energyseal 99.5%metalsbasis，10μm 99.5%metalsbasis，2.0μm 99.5%metalsbasis，25μm 99.5%metalsbasis，2μm 99.5%metalsbasis，300目 99.5%metalsbasis，5μm 99.5%metalsbasis，<100nm 99.5%metalsbasis，粉末，2μm 99.5%metalsbasis，粉末，<3μm 99.5%tracemetalsbasisexcludingHf 99.5%，100-200nm，球形 99.5%，100nm 99.5%，10um 99.5%，150-200目 99.5%，15±5nm 99.5%，2-3μm 99.5%，200nm 99.5%，200目 99.5%，20nm 99.5%，20±5nm 99.5%，300目 99.5%，30±5nm 99.5%，500nm 99.5%，50nm 99.5%，50±5nm 99.5%，60-120nm 99.5%，Water<0.005%(byK.F.)，MkSeal 99.5%，hafniumchloride<50ppm 99.5%，metalsbasis 99.5%，tracemetalsbasis 99.5%，≤3μm 99.5%，升华纯化 99.5%，单杂<0.1% 99.5%，含0.01%的乙酸铵阻聚剂 99.5%，含0.1%KOH稳定剂 99.5%，异构体混合物 99.5%，生物技术级 99.5%，粉末 99.5%，重蒸馏 99.6%，25μm 99.7% 99.7%,with molecular sieves, stabilized with BHT, Water≤50 ppm (by K.F.), MkSeal 99.7%metalbasis 99.7%tracemetalsbasis 99.7%，含100ppmMEHQ稳定剂 99.8%metalsbasis 99.8% 99.8%metalsbasis，100nm，金红，亲水 99.8%metalsbasis，100nm，金红，亲油 99.8%metalsbasis，100nm，锐钛，亲水 99.8%metalsbasis，100nm，锐钛，亲油 99.8%metalsbasis，100目 99.8%metalsbasis，25nm，金红，亲水 99.8%metalsbasis，25nm，锐钛，亲水 99.8%metalsbasis，300目 99.8%metalsbasis，40nm，金红，亲水 99.8%metalsbasis，40nm，锐钛，亲水 99.8%metalsbasis，5-10nm，锐钛，亲水亲油型 99.8%metalsbasis，5-10nm，锐钛，亲水型 99.8%metalsbasis，50±10nm 99.8%metalsbasis，60nm 99.8%metalsbasis，60nm，金红，亲水 99.8%metalsbasis，90±10nm 99.8%metalsbasis，Rh81% 99.8%tracemetalsbasis 99.8%，10μm 99.8%，1μm，，高白度 99.8%，200目 99.8%，PB：0.0005% 99.8%，PB：0.001% 99.8%，Water≤50ppm(byK.F.)，MkSeal 99.8%，比表面积（BET）：100m2/g；粒径：7-40nm 99.8%，比表面积（BET）：115m2/g；粒径：7-40nm 99.8%，比表面积（BET）：120m2/g；粒径：7-40nm 99.8%，比表面积（BET）：150m2/g；粒径：7-40nm 99.8%，比表面积（BET）：170m2/g；粒径：7-40nm 99.8%，比表面积（BET）：200m2/g;氯化物：0.0125 99.8%，比表面积（BET）：200m2/g;粒径：7-40nm 99.8%，比表面积（BET）：230m2/g；粒径：7-40nm 99.8%，比表面积（BET）：300m2/g；粒径：7-40nm 99.8%，比表面积（BET）：380m2/g;粒径：7-40nm 99.85%(metalsbasis) 99.85% 99.9%metalsbasis 99.9% 99.9%(REO) 99.9%tracemetalsbasis 99.9%(metalsbasis) 99.9%metalsbasis，200目 99.9%metalsbasis，50nm 99.9%tracerareearthmetalsbasis 99.9% metals basis 99.9%metalsbasis，粉末 99.9%metalsbasis，100nm 99.9%metalsbasis，10μm 99.9%metalsbasis，200nm 99.9%metalsbasis，20nm 99.9%metalsbasis，无水 99.9%，2-5um 99.9%，200目 99.9%，50nm 99.9%，粉末 99.9% trace metals basis 99.9%(metalsbasis)，Pt44.9%min 99.9%-Ni 99.9%metalsbasis，0.5μm 99.9%metalsbasis，1-2μm 99.9%metalsbasis，1-5μm 99.9%metalsbasis，10-30nm 99.9%metalsbasis，100-200mesh 99.9%metalsbasis，1000目 99.9%metalsbasis，100目 99.9%metalsbasis，1μm 99.9%metalsbasis，1～2μm 99.9%metalsbasis，2-3μm 99.9%metalsbasis，200目，粉末 99.9%metalsbasis，2μm 99.9%metalsbasis，30±10nm 99.9%metalsbasis，40nm 99.9%metalsbasis，4mm，颗粒 99.9%metalsbasis，50-70nm 99.9%metalsbasis，500nm 99.9%metalsbasis，500目 99.9%metalsbasis，5～10μm 99.9%metalsbasis，60-100nm 99.9%metalsbasis，60-100nm，黑色粉末 99.9%metalsbasis，600目 99.9%metalsbasis，800目 99.9%metalsbasis，900目 99.9%metalsbasis，Ir≥84.5% 99.9%metalsbasis，Pd29% 99.9%metalsbasis，α相，30nm，亲水型 99.9%metalsbasis，α相，30nm，亲油型 99.9%metalsbasis，≤0.8μm 99.9%metalsbasis，≤1μm 99.9%metalsbasis，不规则片状 99.9%metalsbasis，宽:13mm，厚:0.3mm 99.9%metalsbasis，粉末，100-200mesh 99.9%metalsbasis，粉末，≥200目 99.9%metalsbasis，粒径<5mm 99.9%metalsbasis，粒径≤1μm 99.9%metalsbasis，粒径（D50）10-20μm 99.9%metalsbasis，颗粒 99.9%metalsbasis，黄色 99.9%metalsbasis，＜200nm 99.9%rareearthmetalsbasis，200目 99.9%tracemetalsbasis，1-10μm 99.9%tracemetalsbasis，200-300nm 99.9%，1-2um 99.9%，1-3um 99.9%，100nm 99.9%，105-250um 99.9%，1250目 99.9%，12~16um 99.9%，15-45um 99.9%，15-53um 99.9%，17um 99.9%，1~5mm 99.9%，200目，四方相 99.9%，20nm 99.9%，23um 99.9%，27um 99.9%，300目 99.9%，30nm 99.9%，325目 99.9%，3~4um 99.9%，40nm 99.9%，500目 99.9%，53-105um 99.9%，53-120um 99.9%，53-150um 99.9%，800目 99.9%，8~10um 99.9%，D50(0.2～0.55μm) 99.9%，Totalmetallicimpuriyies≤1000PPM 99.9%，metalsbasis 99.9%，不含甲醇 99.9%，无甲醇、无甲醛、无酯、无杂醇油 99.9%，比表面积≥120m2/g；粒径：30nm 99.9%，深蓝色，用作透明隔热薄膜 99.9%，球型，D50=0.6-1um 99.9%，球型，D50=0.6-1um，四方晶体-铁电体 99.9%，生物技术级 99.9%，白色 99.9%，颗粒，锆≤0.15% 99.95%metalsbasis 99.95% 99.95%tracemetalsbasis 99.95%(metalsbasis)，Pt51.5%min 99.95%metalbasis 99.95%metalsbasis，1-5mm 99.95%metalsbasis，Os26.1%最低 99.95%metalsbasis，Os37%最低 99.95%metalsbasis，Rh13.5%最低 99.95%metalsbasis，白色 99.95%metalsbasis，钌10.2%最低 99.95%tracemetalbasis 99.95%，1um 99.97%metalsbasis 99.98%metalsbasis 99.98% 99.99%metalsbasis 99.99% 99.99%(REO) 99.99%tracemetalsbasis 99.99%metalsbasis，200目 99.99% metals basis 99.99%metalsbasis，50nm 99.99%(metalsbasis) 99.99%metalsbasis，10μm 99.99%metalsbasis，粉末 99.99% trace metals basis 99.99%(metalsbasis)，Au84.2%最低 99.99%(metalsbasis去除Ni)，Ni<0.2% 99.99%-Sn 99.99%-Zr(REO) 99.99%metalbasis 99.99%metalbasis，无气味的粉末 99.99%metalsbasis0.5-2mm 99.99%metalsbasis，0.1mm直径 99.99%metalsbasis，0.25mm直径 99.99%metalsbasis，0.5mm直径 99.99%metalsbasis，0.5um 99.99%metalsbasis，1-3mm 99.99%metalsbasis，1-3mm，powder 99.99%metalsbasis，100nm 99.99%metalsbasis，1mm直径 99.99%metalsbasis，1um 99.99%metalsbasis，200nm 99.99%metalsbasis，2μm 99.99%metalsbasis，2～10μm 99.99%metalsbasis，300目 99.99%metalsbasis，40-200目 99.99%metalsbasis，40目 99.99%metalsbasis，4mm颗粒 99.99%metalsbasis，50-70nm 99.99%metalsbasis，5μm 99.99%metalsbasis，80%α相，30nm-50nm 99.99%metalsbasis，800目 99.99%metalsbasis，Au>=39.3%最低 99.99%metalsbasis，Rh11.4%最低 99.99%metalsbasis，Rh46.2%最低 99.99%metalsbasis，α晶型约90%，晶型γ约10%，50nm 99.99%metalsbasis，α晶型约90%，晶型γ约10%，60nm 99.99%metalsbasis，α晶型约95%，晶型γ约5%，80nm 99.99%metalsbasis，α相，30nm 99.99%metalsbasis，α相，30nm，亲水型 99.99%metalsbasis，γ相，10nm 99.99%metalsbasis，γ相，40nm 99.99%metalsbasis，≤0.1μm 99.99%metalsbasis，不规则块状 99.99%metalsbasis，主体晶相，30nm-50nm 99.99%metalsbasis，无水级 99.99%metalsbasis，晶体颗粒 99.99%metalsbasis，晶型α，0.20μm 99.99%metalsbasis，晶型γ，20nm 99.99%metalsbasis，晶粒 99.99%metalsbasis，粒径:10μm 99.99%metalsbasis，粒径:2μm 99.99%metalsbasis，粒径:5μm 99.99%metalsbasis，粒径<5mm 99.99%tracemetalsbasis(purityexcludeszirconium) 99.99%tracemetals 99.99%，1-3mm 99.99%，1-3μm 99.99%，1~5mm 99.99%，1μm 99.99%，2um 99.99%，3-5um 99.99%，4N 99.99%，metalsbasis 99.99%，water：0.5-0.8% 99.99%，白色粉末，锆≤0.15% 99.995%metalsbasis 99.995%tracemetalsbasis 99.9965%metalsbasis 99.997%metalsbasis 99.998%metalsbasis 99.998%(metalsbasis去除W)，W300ppm最高 99.998%metalsbasis，100目 99.998%tracemetalsbasis 99.9985%(metalsbasis) 99.9985%(metalsbasis)，(去除最高25ppm的碱土金属) 99.999%metalsbasis 99.999%tracemetalsbasis 99.999%(metalsbasis) 99.999% metals basis 99.999%metalsbasis，200目 99.999%metalsbasis，forPerovskiteprecursor 99.999% trace metals basis 99.999%(REO) 99.999%(metalsbasis去除Ni)，Ni<0.2% 99.999%metalsbasis，1-5mm 99.999%metalsbasis，1-6mm，beads 99.999%metalsbasis，300目 99.999%metalsbasis，60目 99.999%metalsbasis，Si10ppm最高 99.999%metalsbasis，beads，1-6mm 99.999%metalsbasis，powder 99.999%metalsbasis，粒状，1-3mm 99.999%，5N 99.9995%metalsbasis 99.9995%tracemetalsbasis 99.9999%metalsbasis 99.9999%metalsbasis，块状 99.9999%metalsbasis，1-5mm 99.9999%metalsbasis，单晶棒状 99.9999%tracemetalsbasis 99.99999%metalsbasis，块状 99.99999%metalsbasis，棒状或块状 ≥95% ≥98% ≥97% ≥99% ≥98%(GC) >98.0%(GC) ≥98%(HPLC) ≥98%(T) ≥96% ≥98%(GC)(T) AR，99% AR，99.0% >97% ≥97%(GC) AR，98% ≥98.0% AR，99.5% ≥95%(GC) ≥98%(HPLC)(T) ≥99%(GC) >95% ≥90% >99.0%(GC) >98% CP，98% >97.0%(GC) >95.0%(GC) >99% ≥98.0%(GC) >98%(GC) ≥97%(T) ≥98%(LC) >98%(HPLC) >98%(LC) ≥95%(HPLC) ≥95%(T) ≥96%(GC) ≥97.0% AR，98.0% ≥97%(GC)(T) ≥99%(T) ≥90%(GC) ≥97%(HPLC) ≥98%(N) >98.0%(T) >99.5% ≥99.5%(GC) ≥99.5% ≥99.99%metalsbasis AR，98.5% GR，99% ≥98%(HPLC)(N) ≥98%(LC&N) ≥98.0%(HPLC) >99%(HPLC) CP，98.0% >96.0%(GC) >98.0%(GC)(T) GR，99.5% ≥99.0% 无水，粉末，99.99%metalsbasis ＞95% >99%(GC) ≥98%(TLC) ＞98% 95+% >90.0%(GC) >96% >97%(HPLC) >98.0%(HPLC) AR，≥99% ≥97%(HPLC)(T) ≥98%(GC&T) ≥98%(T)(HPLC) ≥99.9%tracemetalsbasis ＞97% >98.0%(N) AR,≥99.5% AR，97% AR，≥99.5% ≥93% ≥98%(LC&T) ≥99.9% 无水，粉末，99.9%metalsbasis 98atom%D >95.0%(T) >98.0%(HPLC)(T) >98.0% ACS，≥99.5% CP，97% ≥80% ≥85%(GC) ≥85% ≥93%(GC) ≥94% ≥95%(GC)(T) ≥95.0%(GC) ≥97.0%(GC) >95%(LC) >99.5%(GC) ACS，≥99.0% AR，97.0% spectrophotometricgrade，≥99% technicalgrade，90% ≥90%(HPLC) ≥90%(T) ≥95.0% ≥97%(LC) ≥98%(HPLC)，powder ≥98%，GC ≥99%(HPLC) ≥99%tracemetalsbasis ≥99.0%(GC) 分析对照品，99.5% 无水，99.9%metalsbasis 97+% >95%(GC) >97.0%(HPLC) >98%(GC&T) >98%(LC&N) >=95% >=97% >=98% AR，90% AR，99.8% CP，95% tech.90% ≥80%(GC) ≥94%(GC) ≥95%(LC&T) ≥96%(T) ≥97%(LC&N) ≥97%(N)(T) ≥97.0%(HPLC) ≥98%(N)(T) ≥98%(T&LC) ≥99%(GC)(T) ≥99.99% 分析对照品，≥98% 98+% >85.0%(GC) >90% >95%(LC&T) >97.0%(T) >98%(LC&T) >98%(T) >99%(TLC) >99.0%(LC) >99.0% AR,≥99.0% AR，95% AR，96% AR，>99.0%(GC) AR，≥98% CP，98.5% CP，99% CP，99.0% GR，99.8% GR，99.9% reagentgrade，98% technical，≥90% ≥92% ≥95%(HPLC)(T) ≥95.0%(HPLC) ≥96%(GC)(T) ≥96%(T&LC) ≥97%(N) ≥97%sumofenantiomers ≥97.0%(T) ≥98%，异构体混合物 ≥98.5% ≥99%,AR ≥99%sumofenantiomers ≥99.0%(HPLC) ≥99.0%(sumofenantiomers，GC) ≥99.9%(GC) 分析对照品，98% 分析对照品，99% 分析对照品，≥99.5% 无水，99.99%metalsbasis 粉末，99.9%metalsbasis 超干，99.999%metalsbasis 1.0mm直径，99.8%metalsbasis 100μg/mL，U(%)=2，介质甲苯 20wt.%inH2O 30nm球形，99.5% 35wt.%inH2O 40nm球形，99.5% 50wt.%inwater 50wt.%水溶液 60wt.%水溶液 80-85% 9.5mm直径，99.999%metalsbasis 92-94% >90%(HPLC) >90.0%(LC) >94% >94.0%(GC) >95%(HPLC) >95%(T) >95.0%(HPLC) >95.0%(LC) >95.0% >96%(GC) >96.0%(LC&T) >97%(GC&T) >97%(GC) >97.0%(HPLC)(T) >98%(T&LC) >98.0%(HPLC)(N) >98.0%(LC&N) >98.5%(GC) >99%，ee>98% >99.5%(LC) >=99% AR99% AR，50wt.%inH2O AR，95.0% AR，96.0% AR，99.5%(GC) AR，99.9% AR，≥99.0% CP，96% Dyecontent90% HPLC≥98% PT，99.8% StandardforGC，≥99.5% Tetrahydrofuran[可抽取Seal瓶],99%, SpcDry, With Molecular Sieves, Water≤50 Ppm (By K.F.), SpcSeal ULC-MS，0.1%inWater anhydrous，98% spectrophotometricgrade，99% technicalgrade，80% technical，≥85% ≥60% ≥70% ≥80%(HPLC) ≥85%(T) ≥85.0% ≥88%(GC) ≥90.0% ≥93%(T) ≥94%(T) ≥95%(HPLC)(N) ≥95%(LC&N) ≥95%(LC) ≥95%(N) ≥95%(T)(HPLC) ≥95.0%(TLC) ≥96%(HPLC) ≥96%(LC) ≥96.0% ≥97%，含稳定剂铜屑 ≥97.0%(TLC) ≥98%(GC&N) ≥98%(HPLC)，solid ≥98%(T)(GC) ≥98%，HPLC ≥98.5%(HPLC) ≥98.5%sumofenantiomers ≥99%，GC ≥99%，HPLC ≥99.0%(T) ≥99.8%(GC) ≥99.9%metalsbasis 分析标准品，98% 无水、粉末、99.99% 粉末，99.99%metalsbasis 超干，99.99%(REO) 超干，99.99%metalsbasis 超纯级，99.0% 重蒸馏，99.5% 重蒸馏，≥99.5% ＞99%metalsbasis，粒径：15nm，比表面积（BET）：300±50m2/g (99.99%-Ce)(REO) (99.99%-Pr)(REO) (E)+(Z)，98% (顺式+反式)，≥92%（GC) -100目，99.9%(metalsbasis) -100目，99.999%(metalsbasis) -200+325目，99.95%metalsbasis -200目，97% -22目，99.995%metalsbasis -22目，99.998%metalsbasis -22目，99.999%(metalsbasis) -325目，99.5%metalsbasis -325目，99.99%(metalsbasis去除Ta)，Ta<500ppm 0.015mm直径，99.95%metalsbasis 0.05mm直径，99.995%metalsbasis 0.1001mol/L介质95%乙醇 0.1mm厚，99.9%(REO) 0.1mm厚，99.9%metalsbasis 0.1mm厚，99.99%metalsbasis 0.1mm直径，99.99%metalsbasis 0.1mm，99.9%metalsbasis 0.1mm，99.99%metalsbasis 0.25mm直径，99.99%(metalsbasis去除Ta) 0.2mm直径，99.999%metalsbasis 0.2mm，99.9%metalsbasis 0.2mm，99.99%metalsbasis 0.3mm厚，99.9%(REO) 0.5mm厚，99.9975%metalsbasis 0.5mm厚，99.998%metalsbasis 0.5mm直径，99.998%metalsbasis 0.62mm厚，99.9%(REO) 0.8-12mm(0.03-0.47in)，99.98%(metalsbasis) 1-10μm，98% 1-3mm(0.04-0.1in)，99.9997%(metalsbasis) 1-3mm，99.999%metalsbasis 1-3μm，≥99%metalsbasis 1.0mm厚，99.99%metalsbasis 1.0mm直径，99.9%metalsbasis 1.0mm直径，99.999%metalsbasis 1.0mm直径，退火，99.995%metalsbasis 1.5mm直径，退火，99.995%metalsbasis 1.5solution20wt.%inmethanol 10-30nm，25%inH2O 100mesh，99.9% 12.0-14.5%Febasis 13-14%activeoxygen 15cm或更小，99.999+%metalsbasis 18wt%二甲苯溶液 18wt.%inH2O，含5-8%甲醇稳定剂 19-23%Cebasis 19mm或更小，99%metalsbasis 1mm直径，99.998+%metalsbasis 1μm，98.5% 2-5mm(0.08-0.20in)直径，99.9999%(metalsbasis) 2-5um/99.5% 2.0mm厚，99.9985%metalsbasis 2.0mm直径，99.999%metalsbasis 20-25%乙醇溶液 200mesh，99% 200nm，99% 20mm或更小，99.9%(REO) 20nm-100nm，99.9%metalsbasis 20nm-50nm球形，99.5% 20nm球形，99.5%，γ型 20wt.%in4%sulfuricacid 20wt.%inethanol 22mm(0.9in)直径，99+%(metalsbasis)，Sr≤0.8% 25-28%，蒸发残渣≤0.002% 25-28%，蒸发残渣≤0.004% 3.175mm直径x3.175mm长，99.9999%(metalsbasis) 3.175mm直径x3.175mm长，99.9999%metalsbasis 3.175mm直径x6.35mm长，99.95%(metalsbasis去除Ta) 30.6-39.0%Cu 300目，99% 30nm球形纯度>99.5% 30nm球形，99.5%，α型 30nm粒径，20wt.%异丙醇溶液 30nm，30wt.%1，2-丙二醇单甲醚乙酸酯溶液 30nm，98%，α型 30nm，99.5% 30wt.%inH2O 30±2%inH2O 32-36% 325目，99.5%metalsbasis 33-35%TiO2 33wt.%solutioninAceticacid，MkSeal 35wt.%inH20 36.0-40.0%Rubasis 37-40% in water 37wt.%inH2O，含10-15%甲醇稳定剂 39-44%B2O3basis，31-37%CaObasis，powder 4-6mm，99.999%metalsbasis 4.15mm厚，99.99%metalsbasis 4.5-6.5%(Al) 40-47%MgO 40-60%，工业级 40nm，99.5%metalsbasis 40nm，99.5% 40wt.%inH2O(8.8M) 40wt.%inH2O 40wt.%inH2O，含0.01%的乙酸铵阻聚剂 45-50% 45.0-50.0% 45um，-325目，99.9%metalsbasis 45wt.%aqueoussolution 48-50%溶液 48～50%Aubasis 49wt.%in2-ethylhexanoicacid 5-10nm粒径，20wt.%水溶液 50 wt. % in H2O 50-55%w/wHBF4 50-70% 50nm近球形，99.5% 50nm，20-30%inWater 50nm，30wt.%1，2-丙二醇单甲醚乙酸酯溶液 50nm，40wt.%inH2O 50nm，40wt.%异丙醇 50nm，50wt.%inH2O 50nm，99% 50nm，球形，99.9%metalsbasis 50wt%己烷溶液 50wt%水溶液 50wt.%inH20 50wt.%inH2O 50wt.%inmineralspirits 50wt.%inpentane 55.0-58.0% 5mm(0.2in)直径，99.995%(metalsbasis) 5mm或更小，99.9999%metalsbasis 5mm直径，99.995%metalsbasis 5mm直径，99.999%metalsbasis 5mm直径，99.9999%metalsbasis 5um/99.5% 6.35mm厚，99.9%metalsbasis 60nm球形纯度>99.5% 60nm球形，98.0% 60nm，99.9%metalsbasis 60wt.%inH2O 62wt.%inH2O 64-66%的水溶液 65-72%inWater 65wt.%inH2O 65wt.%inmineralspirits 68-70% 68.0-72.0%inH2O 6mm直径，99.9%metalsbasis 6mm直径，99.99999%metalsbasis 70-75%inheptane 70wt.%正丙醇溶液 74-76%inWater 75wt.%inH2O 80wt%甲苯溶液，含0.3%MgO稳定剂 80wt.%inH2O，contains600ppmmonomethyletherhydroquinoneasinhibitor 85-90%，工业级 8wt.%inH2O 9.5mm直径，99.97%metalsbasis 90nm，30wt.%1，2-丙二醇单甲醚乙酸酯溶液 93wt%甲苯溶液，含0.3%MgO稳定剂 96atom%D，98%(CP) 98-101% 98atom%13C，95%(CP) 98atom%D，95% 99+% 99.0-100.5%(indriedsubstance)，meetsanalyticalspecificationofE282 99.5atom%D，99%(CP) 995-1005ug/mlV(3+)的2%HNO3溶液(20°C) 99atom%11B 99atom%13C，98%(CP) <1%diethyleneglycolmonobutylether <100nm，99.9%metalsbasis >30%absorptioncapacity(water)(at80%rel.humidity，25°C) >52%(GC) >60.0%(GC) >75%(GC) >80.0%(GC) >80.0%(GC)，含200-650ppmMEHQ稳定剂 >80.0%(LC) >80.0%(T) >85%，stabilizedwithHydroquinone >90%(GC)，单脂 >90%(GC)，含100ppm对叔丁基邻苯二酚稳定剂 >90%(LC) >90%(T) >90.0%(GC)，含稳定剂BHT >92% >93%(GC) >93%(HPLC) >93%(T) >93% >93.0%(GC) >93.0%(HPLC) >93.0%(LC)，顺反混合物 >95.0%(GC&T) >95.0%(GC)(T) >95.0%(GC)，含0.2%CaCO3/MgO(11)稳定剂 >95.0%(HPLC)(N) >95.0%(LC&T) >95.0%(N) >95.0%(T)，硬型，混合物 >96%(GC&T) >96.5% >97%(LC&N) >97%(T&LC) >97%(T) >97.0%(GC&T) >97.0%(GC)(T) >97.0%(HPLC)(N) >97.0%(LC) >97.0%(N) >97.0% >97.0%，totalofisomer >97.5% >98%(GC&N) >98%USP >98%（T) >98.0%(GC&T) >98.0%(LC)，含≤5%己烷 >98.0%(T&LC) >98.0%(T)(HPLC) >98.0%(W) >99% (GC) >99%(GC)，包含180-200ppmMEHQ稳定剂 >99.0%(GC)(T) >99.0%(GC)，250ppmMEHQ做稳定剂 >99.0%(GC)，含100ppm4-叔丁基邻苯二酚稳定剂 >99.0%(GC)，含MEHQ稳定剂 >99.0%(GC)，无色液体 >99.0%(GC)，用于HPLC荧光标记 >99.0%(HPLC) >99.0%(T) >99.5%(HPLC) >99.9%(GC) >=98%HPLC，solid ACSreagent，99% ACSreagent，chips，33.5-36.5% ACSspectrophotometricgrade，≥99.9% ACS，48% ACS，97%，片状 ACS，98% ACS，98.0-102.0% ACS，98.0-103.0% ACS，99% ACS，99.0% ACS，99.0-101% ACS，99.5-101.0% ACS，>98% ACS，Pt37.5%min ACS，≥85% ACS，≥97.0% ACS，≥98.0%(RT) ACS，≥99% ACS，≥99.0%(GC) ACS，≥99.4% ACS，≥99.5%(GC) ACS，≥99.7% APS≈2微米，99.9%metalsbasis AR 98% AR ≥99% AR ≥99.0% AR, 99.8% AR, ≥96.0% AR, ≥99.0%, 分析纯 AR,30% NH3 basis(T) AR,95% AR,食品级95% AR,≥97.0% AR,≥99%(颗粒状) AR,≥99% AR.98.0% AR85% AR99.0% AR99.5% AR，40% AR，40-45%MgObasis AR，40.0% AR，54-57%Cubasis AR，55.3%SnO2 AR，57.5% AR，85% AR，85-90% AR，85.0% AR，90.0% AR，92% AR，99%metalsbasis AR，99%，含10ppmBHT稳定剂 AR，99.0%，白色晶体 AR，99.00% AR，99.5%metalsbasis AR，99.5%，粉末 AR，99.7% AR，>97.0%(GC) AR，>98.0%(GC) AR，>98.5%(GC) AR，>99.0%(T) AR，Co13.5～14.5% AR，Co43.0-47.0% AR，Fe21-23% AR，Mg4.0-5.0% AR，Mn>47% AR，Pd46.0-48.0% AR，Pt≥37.5% AR，Ratio(MgO/Al2O3)=1~3，失水率：≤8.5%(100℃，1h) AR，SO2≥6% AR，≥47.0%，含≤1.5%H3PO2稳定剂 AR，≥60% AR，≥75wt.%inH2O AR，≥80%，GC AR，≥85.0%MoO3basis AR，≥98.0% AR，≥98.5%(GC) AR，≥99%(titration) AR，≥99.0%(RT) AR，≥99.5%(GC) AR，≥99.5%，200目 AR，含0.025%BHT稳定剂 AlkylatingAgent，90% Au48-50% Au≥51% Availablechlorine4.0% BR，99% Ba≥30.0% BioChemika，>=96.0%TLC BioChemika，≥99% BioReagent，suitableforfluorescence，≥98.0%(T) BioXtra，≥98.0%(TLC) C14-C17混标，52%Cl，100ppm溶于环己烷标准品10ml C1654%-62%；C1838%-44% C1880-90% CARBON44%-45% CP，60.0% CP，80% CP，88% CP，90.0% CP，99%，1-4mm CP，99%，粉末 CP，>98%(GC) CP，Co43.0-47.0% CP，Mn>44% CP，≥97.0%(RT) Ca6.6-7.4% Co7.8-8.2%，溶剂:40%-80%的石脑油 Content(1-MCP)≥4.0%，Carriercyclodextrin Co≥31% Cu8% Cu:9.5%-10.9%，200目 Cu>36% D,99.8% DNA级，75% Dyecontent80% Dyecontent85% Dyecontent95% D，≥98% Fe2O3≥85% Fe>26%，powder Fe>30.5% Fe≥21% Fe，24% Fe，60.0-72.0% GR85%+ GR，40.0% GR，70% GR，≥60% GR，≥85wt.%inH2O GR，≥90% GR，≥99.0%(GC)，用于测定醛 GR，≥99.0%(T) GR，≥99.0% GR，≥99.5%(GC) GR，≥99.5%(RT) GR，≥99.8% HPO3≥38% Ir35%inHCl Ir48.0-55.0% Ir:73% Mn4000，50%溶液 Mnca.6% Mn≥4.0%水溶液 Mn≥71.0%，BETsurfaceArea5～7m2/g Mo56.5% N8% Ni61% Os38.7% Os42.5% Os83% Pb≥82% Pb：59.35~61.36% Pd23.9% Pd44.8% Pd≥20.5% Pd≥44% Pd≥85% Ph.Eur.，BP，USP，99-100.5% Pt34.0% Pt50.5% Pt59.7% Ptbasis≥73% Pt≥43.4% Pt≥57% Pt≥64.5% Pt，18.02% Pt，65% Reagentgrade，98% Rh17.1% Rh21% Rh21.3% Rh27.5% Rh30%min Rh≥23.3% Ru 28.4% min Ru1.5%w/v Ru29%min Ru35.8-36.1% Ru5% SiO2，44-47% Sn≥42% Sn≥46% StandardforGC，99.9% Sumisomers(GC)≥98.0%(a/a) T-98% Tetrahydrofuran[可抽取Seal瓶],99%, SpcDry, Water≤50 Ppm (By K.F.), SpcSeal Tetrahydrofuran[可抽取Seal瓶],99.5%, SpcDry, Water≤50 Ppm (By K.F.), SpcSeal TiCl3:76.0-78.5% ULC-MS，0.04%inWater ULC-MS，0.3%inWater Water≤50 ppm(by K.F.)，99.7%，SafeDry，Safeseal Zn10-12% Zn10-12%，325目 Zn:19%-22% ZnO≥61%，CrO3≥19% Zn≥35.5% ZrO2≥20% analyticalstandard≥99.0%(GC) anhydrous(99.9%-Co) anhydrous(99.999%-Ga)PURATREM anhydrous，99.0% anhydrous，99.5% anhydrous，99.9%tracerareearthmetalsbasis anhydrous，99.995%tracemetalsbasis anhydrous，99.998%tracemetalsbasis anhydrous，powder，99.9%metalsbasis anhydrous，≥99% averageMw~2，200，averageMn~1，200，allylalcohol40mol% batterygrade99.99%tracemetalsbasis ca.10%inIsopropylEther，MKSeal cisandtrans，98% cisandtrans，99% contains150ppmBHTasinhibitor，98% contains75-125ppmmonomethyletherhydroquinoneasinhibitor，>90% contains≤2%BHTasstabilizer，98% diam.3mm，≥99.95%metalsbasis doped，conductivity0.5-1.5S/cm(pressedpellet，typical)，extentoflabeling~5wt.%loading，coatedontitaniumdioxide doped，conductivity30S/cm(bulk)，extentoflabeling20wt.%loading，compositewithcarbonblack electronicgrade，99.999%tracemetalsbasis for spectrophotometric det. of Fe， ≥99.0% forGC-HS，≥99.9%(GC) forHPLC，≥99.0%(T) forHPLC，≥99.5% forHPLC，≥99.9% forNMRspectroscopy，≥99.9%(GC) forTLCderivatization，forspectrophotometricdet.ofphosphorus-containingpesticides，≥98% forplantcellculture，98%(HPLC) forplantcellculture，≥99% forspectrophotometricdet.ofAu，NO2-，Ce(IV)，forthedetectionofAu，Co，Cu，SCN-，V，≥97% forspectrophotometricdet.ofAu，Tl(III)，W，≥99% forspectrophotometricdet.ofCo(II)，Cu(II)，≥90% forspectrophotometricdet.ofCu，≥99% forspectrophotometricdet.ofFe(III)，≥98.5% forspectrophotometricdet.ofFe，≥97% forspectrophotometricdet.ofMo，Sn，W，andalsoAgandRe，≥97% forspectrophotometricdet.ofS2-，Cl2，≥99% forspectrophotometricdet.ofSO42-，S2-，≥97% forspectrophotometricdet.ofZn(II)，Cu(II)，Fe(II)，Co(II)，H2O2，≥95% forspectrophotometricdet.ofaminosugars，≥99% forspectrophotometricdet.ofmetalions，≥99% forspectrophotometricdet.ofnitrateandnitrite，≥99% forspectrophotometricdet.oftransitionmetals，≥95% forspectrophotometricdet.，Bi，71-74%Bibasis(KT) forspectrophotometricdet.，≥99% maycontainupto10%ethanol，85% maycontain≤10%DMF mixtureofisomers，90% mixtureofoligomers，98% nanopowder，<100nmparticlesize(BET)，>97%tracemetalsbasis nanopowder，<100nmparticlesize(laserPSA)，99.8%tracemetalsbasis nanopowder，<200nmparticlesize(BET)，>99% powder，1-2μm，99% predominantlytrans95% purifiedbyredistillation，≥99.5% purum，≥98.0%(TLC) reagentgrade，98.0% reagentgrade，99% red(Hematite)(99.8%-Fe) researchgrade，99atom%13C roplatinum(IV)，Pt52.6% stabilizedwithBHT1%w/w standardforGC，>99.5% suitableforfluorescence，≥75%(HPLC) tech.80% tech.85% techgrade，95% technicalgrade，85% technical，75% technical，90%，ee99+% technical，≥85%(GC)，含铜屑稳定剂 technical，≥90%(GC，mixtureofisomers) technical，≥90%sumofenantiomers ultrapure，≥99.0% undoped，extentoflabeling~20wt.%loading，compositewithcarbonblack ~0.5Min2-methyltetrahydrofuran，≥95.0% ~0.5Mintert-butylmethylether，≥97.0%(HPLC) ~100μg/mLinethanol，≥97% ~17%aromaticsbasis ~20%inH2O ~30%inH2O ~40%inH2O ~5%inH2O ~70%alpha-thujonebasis，~10%beta-thujonebasis ~75%(Al) ~85%(KT) ~95%(TLC) α相，99.9%metalsbasis β-phase，95%，1-3μm β相，99.9%metalsbasis ≤10%water ≤3%water ≥18%Na(asNa2O)basis，≥60%Si(asSiO2)basis，powder ≥28%NH3inH2O，电子级 ≥29%Ti(asTiO2)basis，technical ≥37%Rubasis ≥40%ZrO2basis ≥40% ≥40%，含菜油甾醇乙酸酯 ≥45%(E) ≥50.0%Ptbasis ≥52% ≥55%(HPLC) ≥55% ≥57% ≥60%(GC) ≥65%(GC) ≥65%(HPLC) ≥65%，含有异构体 ≥70%，α-和β-位的混和物 ≥70%，块状 ≥75%(GC) ≥85%(GC)(N) ≥85%(HPLC)(T) ≥85%(HPLC) ≥85%，NMR ≥88%(UV-vis) ≥88%，顺反异构体混和物 ≥89% ≥90%(GC)，mixtureofisomers ≥90%(HPLC)，用于荧光分析 ≥90%，GC ≥90%，n=9 ≥90.0%(GC) ≥90.0%(HPLC) ≥90.0%，顺反异构体混和物 ≥91% ≥92%，80-150目，中性 ≥92%，80-150目，碱性 ≥92%，80-150目，酸性 ≥93%(HPLC) ≥93.0%(GC) ≥94%(HPLC) ≥94%(oligomerpurity) ≥94.0%(TLC);94% ≥95%(GC&T) ≥95%(T)，非对映异构体混合物 ≥95%(TLC) ≥95%(oligomerpurity) ≥95%H4P2O7basis ≥95%Vbasis ≥95%，2000目 ≥95%，stabilized，FG ≥95.0%(GC)，含稳定剂氢氧化钾 ≥95.0%(H-NMR) ≥95.0%(NT) ≥96%(GC&T) ≥96%(HPLC)(T) ≥96%(LC&N) ≥96%sumofenantiomers ≥96%，FCC，FG ≥96%，N≤0.0005% ≥96.0%(GC);≥96.0% ≥96.0%(GC) ≥96.0%(HPLC) ≥96.0%(NT) ≥96.0%(reversedphaseHPLC) ≥96.5%(HPLC);96.5-103.5%(AT);97% ≥96.5%(HPLC);97% ≥97%(GC&N) ≥97%(GC&T) ≥97%(HPLC)(N) ≥97%(HPLC)，whitepowder ≥97%(TLC) ≥97%(W) ≥97%，FG ≥97%，HPLC ≥97%，异构体混合物 ≥97%，氢溴酸盐 ≥97.0%(calc.basedondrysubstance，NT) ≥97.5%(GC);98% ≥97.5%(HPLC) ≥97.5%;97.5-102.5%(titration);98% ≥98%(GC)(N) ≥98%(GC)，~10mg/mLinmethanol ≥98%(GC)，含稳定剂MEHQ ≥98%(GC)，含稳定剂TBC ≥98%(HPLC)(T ≥98%(HPLC)，oil ≥98%(LC&W) ≥98%(N&T) ≥98%(T&N) ≥98%(TLC);≥98%(aserucicacid) ≥98%(W) ≥98%(enzymatic) ≥98%(mixtureofregioisomers) ≥98%(sumofenantiomers) ≥98%sumofenantiomers ≥98%（HPLC） ≥98%，50mg/mlinethanol ≥98%，MgO:45% ≥98%，Ni:22.5%+ ≥98%，pellets(anhydrous) ≥98%，白色 ≥98.0%(AT) ≥98.0%(F) ≥98.0%(GC)，mixtureofisomers ≥98.0%(NT) ≥98.0%(T) ≥98.0%(TLC) ≥98.0%(sumofenantiomers，GC) ≥98.0%，HPLC ≥98.5%(NMR);99% ≥98.5%(sumofenantiomers，GC);99% ≥99% ,AR ≥99%(75%inethylacetatesolution) ≥99%(N) ≥99%(Sumofisomers) ≥99%,分子生物学级 ≥99%,细胞培养级 ≥99%，300目 ≥99%，4-16mesh ≥99%，AR ≥99%，suitablefordeterminationofsulfhydrylgroups ≥99%，含50-100ppmBHT稳定剂 ≥99%，粒度:＞10um，白色粉末 ≥99%，粒度:＞10um，黄色粉末 ≥99.0%(TLC) ≥99.5%(GC） ≥99.5%(HPLC) ≥99.5%(LC) ≥99.5%(metalsbasis) ≥99.5%(电子级） ≥99.5%,AR ≥99.5%tracemetalsbasis，20-80nm ≥99.5%，100nm ≥99.5%，GC ≥99.5(GC)，含0.01%KOH稳定剂 ≥99.8% ≥99.95%metalsbasis ≥99.98%metalsbasis ≥99.99% metals basis ≥99.99%metalsbasis，200目 ≥99.99%metalsbasis，99.7-100.5%drybasis ≥99.99%tracemetalsbasis ≥99.999%metalsbasis，粒径：1-6mm 丰度98atom%；化学纯度≥98.5% 二氧化硅38.0%~42.0% 二氧化硅含量：29%～31% 二聚，三聚和四聚甘油≥75w/%，七聚甘油以上≤10w/% 光玻级，99.99%metalsbasis 光致抗蚀剂级，99% 分析对照品HPLC≥98% 分析对照品，99.95% 分析对照品，≥98%(HPLC) 分析标准品，99.93% 分析标准品，99.95% 制备色谱级，99.8% 包含100ppmNaOH稳定剂，99% 包含50-185ppmMEHQ稳定剂，98% 包含有200ppmMEHQ阻聚剂，99% 升华树枝状，99.9%(REO) 升华，99.9%(REO) 含量(P2O5)%≥85% 含铂量27% 固含量99% 固含量~70% 块状，99.9%metalsbasis 工业级,95% 异构体混合物，40wt.%inH2O 异构体混合物，80% 异构体混合物，97% 异构体混合物，99% 摩擦片专用，97%，1250目 无定型，2-6mm(0.08-0.2in)，99.999%(metalsbasis) 无定形，0.5-2μm，99.9% 无定形，99%，粒径(D50)10-20um 无定形，<5μm，98% 无水99.9%(REO) 无水级，99.99%metalsbasis 无水级，≥99.9%，含50ppmBHT抑制剂 无水，99.5%metalsbasis 无水，99.995% 无水，99.999%metalsbasis 无水，99.999% 无水，≥98% 无水，片状，99.9%metalsbasis 无水，粉末，99.5%metalsbasis 无水，粉末，99.9% 无水，粉末，99.999%metalsbasis 无水，粉末，≥99.99%metalsbasis 无水，鳞片，99.99%metalsbasis 昆虫细胞培养级，≥99% 晶体，APS≈100nm，99%，等离子合成 晶状，-4+40目，99.9999%(metalsbasis) 植物细胞培养级，≥99.5% 比表面积10-15m2/g，粒度20nm-100nm，99.9% 比表面积3-8m2/g，粒度80nm，99.9% 氮≥19.5% 油状50% 涂料专用型，98.5%，6000目 环保试剂，96% 生物技术级，≥99% 生物技术级，≥99.9% 用于GC衍生化，99% 用于GC衍生化，≥98.0% 用于分子生物学，≥99.0%(T) 用于分子生物学，≥99.5% 用于电池，粒度：7-10um，99.9%metalsbasis 用于细胞和昆虫细胞培养，81-83%asMoO3 用于荧光分析，99.7% 电子级99.5% 电子级，0.3～0.5um，99.5% 电子级，99.98%metalsbasis 电泳级，≥99% 电镀级，99% 白色，AL2O3≥30% 直径:1.0mm，退火，99.9995%metalsbasis 碲粒2-3MM99.999% 碳含量43-48% 磷含量:23%-24% 离子对色谱专用，≥99.0% 筹码专用，98%，3000目 粉末，98% 粉末，99.5% 粉末，99.99%metalsbasis，100目 粉末，99.99%metalsbasis，200目 粒状，1-4mm，99.999%metalsbasis 红外分析用，≥99% 红外测油仪专用，99% 约10%于四氢呋喃中 约12.5%于四氢呋喃中，约1.5mol/L 约13%于四氢呋喃中，约2mol/L 约15%于己烷中 约20%于二氯甲烷中，约1mol/L 约20%于水中 约63%于异丙醇中 约70%的水溶液 细胞培养级，98-101% 结晶，APS≤50nm，98%，气相激光合成 脱色率≥90%，比表面积≥180m2/g，水分≤3.0%，颗粒平均抗压力≥1N，抗水型 脱色率≥90%，比表面积≥180m2/g，水分≤5.0%，颗粒平均抗压力≥0.7N 脱色率≥90%，比表面积≥180m2/g，水分≤5.0%，颗粒平均抗压力≥1N，脱氮型 脱色率≥90%，比表面积≥300m2/g，水分≤8.0%，颗粒平均抗压力≥1N 脱色率≥90%，活性度≥180H+mmol/kg，水分≤10% 脱色率≥92%，活性度≥100H+mmol/kg，水分≤12% 脱色率≥95%，活性度≥160H+mmol/kg，水分≤12% 脱色率≥98% 荧光级，>97%(HPLC) 药用级，99.5% 药用级，≥99.5%(GC) 蒸馏枝形片状99.95%metalsbasis 蒸馏树枝状，99.9%(REO) 蒸馏纯化，≥99.5% 试剂级，Ir>52% 超干，99.9%(REO) 超干，99.9%metalsbasis 超干，99.995%metalsbasis 超干，99.998%metalsbasis 超纯级，99% 超纯级，>99.5%(GC) 轻质，99% 通常92%，溶于2-二乙基己酸 酐90%酸10% 钌含量75% 铂含量，>99.9%，粒径10nm 铂含量：52.0% 铑含量(wt%)，5% 铑含量，10.1% 铱含量≥39% 铱含量：43.0% 锑含量≥60% 锭，99.5% 锭，99.9%metalsbasis 镀膜级，99.99%metalsbasis，3.5-5mm 镀膜级，颗粒，99.9%metalsbasis 镁含量57% 镍45.0-52.5% 闪烁纯，99% 高纯级，>99.5%(GC) 黄腐酸FA≥90% ＜100nm，99% ＞40%inH2O ＞70% ＞90% ＞97%(HPLC) ＞98%(GC) ＞99% ＞99.0%metalsbasis，2μm

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